李俊延在《The Journal of Physical Chemistry Letters》上发表论文：基于电子显微学的UTL拓扑结构超大孔分子筛的结构解析和缺陷分析

透射电子显微学是研究分子筛结构的重要方法，能够实现对材料的结构解析和微区特征的直接成像。其中，UTL拓扑结构的分子筛，具有超大孔二维穿插孔道，并广泛用于分子筛层结构组装技术（特别是ADOR过程），但是对于UTL骨架分子筛的缺陷研究，尤其是层缺陷的研究十分缺乏。

近日，硕士研究生李俊延作为第一作者在《The Journal of Physical Chemistry Letters》杂志发表题为“Structure Solution and Defect Analysis of an Extra-Large Pore Zeolite with UTL Topology by Electron Microscopy”的研究工作。该研究使用透射电子显微学方法，表征了由新模板剂DBU导向合成的UTL分子筛。研究内容包括：1）利用三维电子衍射和球差校正扫描透射电子显微镜图像来解析和验证该分子筛结构；2）根据高分辨透射电子显微图像以及电子衍射分析分子筛晶体中存在的面缺陷；3）通过搭建微孪晶以及“刃型位错”的层缺陷结构模型解释了电子衍射中的衍射弥散行为。该工作的层缺陷研究对二维分子筛组装的过程有重要意义。该工作的材料UTL-DBU由中山大学张传奇提供，电镜表征在上海科技大学高分辨电子显微中心(CℏEM)进行，该工作由上海科技大学Alvaro Mayoral和Osamu Terasaki两位教授与于吉红院士联合指导完成。

J.Phys.Chem.Lett.,2020, https://dx.doi.org/10.1021/acs.jpclett.0c00551 第一作者：李俊延（导师：于吉红院士）